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    DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF A-SI:H FILMS DOPED (N-TYPE OR P-TYPE)
    Descripción: “..., activation energy, and thickness. The films were fabricated through plasma enhanced chemical vapor deposition...”
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    DEPÓSITO Y CARACTERIZACIÓN DE PELÍCULAS DOPADAS DE A-SI:H (TIPO N O TIPO P)
    Descripción: “... fabricaron mediante la técnica Depósito Químico en fase Vapor Asistido por Plasma (PECVD, por su sigla en...”
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